納米壓印采用接觸式壓印完成圖形的轉(zhuǎn)移，可應(yīng)用于芯片光刻和AR眼鏡光波導(dǎo)方案等領(lǐng)域，是傳統(tǒng)復(fù)雜光學(xué)光刻技術(shù)的替代解決方案。蘇大維格9月8日在互動(dòng)平臺(tái)表示，根據(jù)相關(guān)資訊，納米壓印光刻技術(shù)在集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用可實(shí)現(xiàn)更低成本的芯片量產(chǎn)。

　　消息面上，據(jù)DIGITIMES資訊顯示，SK海力士2023年引進(jìn)日本光學(xué)設(shè)備廠佳能納米壓印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）生產(chǎn)設(shè)備，正在進(jìn)行測(cè)試與研發(fā)，目標(biāo)在2025年左右將該設(shè)備用于3D NAND量產(chǎn)。

　　西部證券單慧偉5月25日研報(bào)中表示，納米壓印是表面浮雕光波導(dǎo)技術(shù)的其中一環(huán)，采用表面浮雕光柵替代傳統(tǒng)折反射光學(xué)元件可實(shí)現(xiàn)二維擴(kuò)瞳，擴(kuò)大眼動(dòng)范圍，生產(chǎn)制造難度也相對(duì)較低。

　　東北證券李玖9月5日研報(bào)中指出，納米光刻設(shè)備和納米壓印設(shè)備獨(dú)具優(yōu)勢(shì)，將推動(dòng)波導(dǎo)鏡片產(chǎn)業(yè)化。

　　據(jù)公開資料顯示，納米壓印技術(shù)，即NanoimprintLithography(NIL)，是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。納米壓印的分辨率由所用印模板圖形的大小決定，物理上沒有光刻中的衍射限制，納米壓印技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)線寬的圖形。